真空技術(shù)在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用

• 時間：2015-03-20

        在現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)當中，真空技術(shù)得到了廣泛的應(yīng)用。下面，簡單給大家介紹兩種真空技術(shù)的應(yīng)用。
        半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)離不開真空技術(shù)。生產(chǎn)半導(dǎo)體元件：(1)要在硅片上摻入相應(yīng)的其他元素;(2)在生產(chǎn)集成電路時要形成復(fù)雜的金屬薄膜和絕緣膜;(3)要進行表面的刻蝕處理等復(fù)雜的工序。如果生產(chǎn)過程中的真空度不夠，表面上沾了灰塵或油滴之后會出現(xiàn)嚴重的后果。集成電路中細線的寬度是吸煙時吐出的煙霧顆粒直徑的1/3，是一?；覊m直徑的近萬分之一。對集成電路而言，哪怕落有一顆煙霧的顆粒，就好像大路上停了一架大型飛機一樣，使電子無法通過或造成短路。
        新材料開發(fā)離不開真空。以分子束外延為代表的薄膜生長技術(shù)是新材料開發(fā)的重要手段，薄膜材料放到蒸發(fā)源中之后被蒸發(fā)或升華，在超高真空環(huán)境中，薄膜材料的原子或分子可以長距離飛行，到達襯底成膜;而且由于殘留氣體少，襯底表面形成的薄膜純度高。